Πολυμερικά υλικά και διεργασίες για μικρολιθογραφία σε λεπτά υμένια

Περίληψη

Η αξιόπιστη κατασκευή σχηματοποιημένων μικρο- νανοδομών αντιπροσωπεύει ένα από τα πιο ουσιαστικά βήματα που συναντώνται σε πληθώρα εφαρμογών στην ευρύτερη περιοχή της Μικρο- και Νανοτεχνολογίας. Παρόλο που ένας σημαντικός αριθμός από νέες προσεγγίσεις έχει προταθεί για την κατασκευή σχηματοποιημένων δομών, η κλασσική οπτική λιθογραφία με βάση ακτινοευαίσθητα ανθεκτικά στην εγχάραξη υλικά (photoresists) εξακολουθεί να είναι η επικρατούσα τεχνολογία για κατασκευή ηλεκτρονικών και οπτικών διατάξεων. Πράγματι η τεχνολογία των ανθεκτικών στην εγχάραξη υλικών έχει προχωρήσει σε πολύ μεγάλο βαθμό κατά την διάρκεια των τελευταίων 30 ετών και έχει συμβάλλει αποφασιστικά στη σμίκρυνση των διαστάσεων των ηλεκτρονικών διατάξεων. Την περίοδο αυτή είναι διαθέσιμα υλικά για έκθεση στα 193 nm με βελτιστοποιημένα λιθογραφικά χαρακτηριστικά που επιτρέπουν την παραγωγή ημιαγωγικών διατάξεων με διαστάσεις έως και 65 nm. Για την περαιτέρω σμίκρυνση της τεχνολογίας μία από τις επικρατούσες προτεινόμενες τεχ ...
περισσότερα

Περίληψη σε άλλη γλώσσα

Reliable fabrication of patterned micro- nanostructures represents one of the most essential steps that are encountered in a variety of applications in the broader field of Micro- and Nanotechnology. Although a number of novel routes have been proposed for the fabrication of patterned structures, standard resist-based optical lithography continues to be the predominant technology for the fabrication of electronic and optical devices. Indeed the resist technology has been greatly advanced during the last 30 years and allowed the decrease of the electronic device dimensions. Currently, advanced 193 nm resists are available allowing the production of semiconductor devices with dimensions down to 65 nm. For the further advancement of the miniaturization technology one of the predominant proposed technologies for the 45 nm node is Extreme Ultra Violet (EUV) lithography with an exposure wavelength at 13 nm. Nowadays there is great scientific effort in order to propose appropriate material pl ...
περισσότερα

Όλα τα τεκμήρια στο ΕΑΔΔ προστατεύονται από πνευματικά δικαιώματα.

DOI
10.12681/eadd/20799
Διεύθυνση Handle
http://hdl.handle.net/10442/hedi/20799
ND
20799
Εναλλακτικός τίτλος
Polymeric materials and processes for thin films microlithography
Συγγραφέας
Νιάκουλα, Δήμητρα του Κωνσταντίνος
Ημερομηνία
2006
Ίδρυμα
Εθνικό και Καποδιστριακό Πανεπιστήμιο Αθηνών (ΕΚΠΑ). Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Χημείας
Εξεταστική επιτροπή
Πιτσικάλης Μαρίνος
Βύρας Κυριάκος
Ιατρού Ερμής
Κοκότος Γεώργιος
Μπουντουβής Ανδρέας
Φερδερίγος Νικόλαος
Χατζηχρηστίδης Νικόλαος
Επιστημονικό πεδίο
Φυσικές ΕπιστήμεςΧημεία
Λέξεις-κλειδιά
Λιθογραφία λεπτών υμενίων; Άπω υπεριώδες; Μοριακά ακτινοευαίσθητα υλικά βασισμένα σε παράγωγα ανθρακενίου; Πολυ-καρβοκυκλικά μόρια; Ακτινοευαίσθητα υλικά βασισμένα σε εποξειδικά πολυμερή; Αναστολείς διάλυσης; Ρυθμός διάλυσης λεπτών υμενίων; Μέτρηση θερμοκρασίας υαλώδους μετάπτωσης λεπτών υμενίων
Χώρα
Ελλάδα
Γλώσσα
Ελληνικά
Άλλα στοιχεία
249 σ., εικ.
Στατιστικά χρήσης
ΠΡΟΒΟΛΕΣ
Αφορά στις μοναδικές επισκέψεις της διδακτορικής διατριβής.
Πηγή: Google Analytics.
ΞΕΦΥΛΛΙΣΜΑΤΑ
Αφορά στο άνοιγμα του online αναγνώστη.
Πηγή: Google Analytics.
ΜΕΤΑΦΟΡΤΩΣΕΙΣ
Αφορά στο σύνολο των μεταφορτώσων του αρχείου της διδακτορικής διατριβής.
Πηγή: Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών.
ΧΡΗΣΤΕΣ
Αφορά στις μοναδικές επισκέψεις της διδακτορικής διατριβής.
Πηγή: Εθνικό Αρχείο Διδακτορικών Διατριβών.
Σχετικές εγγραφές (με βάση τις επισκέψεις των χρηστών)